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单晶圆湿法清洗工艺中铝金属腐蚀问题研究

2023-08-04 16:03:16

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显示器生产简述:

显示器生产过程中在蚀刻、显影之后都会有清洗工艺,清洗的主要目的是去除玻璃粉、指纹、浮油、尘埃粒子、纤维纸屑、矿物油和油脂等油垢、氧化硅等无机颗粒、制备加工过程的残留物、水迹、手指印等,将这些污染物去除以生产出具有高光学性能的显示屏。

清洗:

如所使用的玻璃基板在受入前必须清洗干净,在溅镀ITO导电膜之前还需要清洗干净;

在涂敷光刻胶等之前都要对玻璃基板进行清洗,将1微米以上的颗粒以及所有的无机、有机污染物清洗干净,保证工艺达到所需要的精度要求。

清洗会产生大量废水,在当前水资源日益紧缺的背景下,工业生产大多数都会采用废水回用技术。人们根据废水中有机物的含量,开发了物理、化学、生物以及联合处理工艺用于回收废水。

主要清洗工艺

湿法

    刷洗

    高压喷淋

    浸泡式超声波清洗

    流水式高频超声波清洗

    药液喷淋

    二流体清洗

    超高压微细粒子喷射清洗技术

    功能水清洗技术  

干法

    紫外线照射清洗(UV清洗)

    等离子体清洗 

问题描述

    清洗液中的污染物对玻璃基板性能造成不良影响;

    影响加工过程中玻璃基板表面与使用的各种材料之间的亲和力;

    伤害玻璃基板松软膜层 

产品应用

高纯水、超纯水、去离子水的终端过滤

    PES膜滤芯

 

工艺用水处理,或作为高纯水及多种模式过滤的前过滤

   PP膜滤芯

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技术支持:

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工况调查表

 

常见颗粒物尺寸大小;

常见液体粘度资料及数据参考表;

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